Hangzhou Leap Chem Co., Ltd hija waħda mill-aktar manifatturi u fornituri professjonali ta 'tantalum(v) oxide丨cas 1314-61-0 fiċ-Ċina. Merħba għal prodotti kimiċi magħmula apposta bl-ingrossa bi prezz kompetittiv mill-fabbrika tagħna. Għal aktar prodotti irħas, ikkuntattjana issa.
Speċifikazzjonijiet
| Purità: | 99.9% min |
| Daqs tal-partiċelli (D50): | 1.5 µm max |
| Daqs tal-partiċelli (D90): | 5 µm max |
| BET: | 2–5 m²/g |
| Sn: | 20 ppm max |
| Pb: | 20 ppm max |
| Cu: | 20 ppm max |
| Ca: | 20 ppm max |
| Zn: | 20 ppm max |
| Fe: | 20 ppm max |
| Ni: | 20 ppm max |
| Bi: | 20 ppm max |
| Al: | 20 ppm max |
| Cd: | 20 ppm max |
| Ko: | 20 ppm max |
| Cr: | 20 ppm max |
| Mn: | 20 ppm max |
| Lu: | 20 ppm max |
| Si: | 20 ppm max |
| Ti: | 50 ppm max |
| W: | 20 ppm max |
| Bħala: | 50 ppm max |
| Na: | 100 ppm max |
| Ag: | 30 ppm max |
Applikazzjonijiet
L-ossidu tat-tantalu (V) huwa materjal inorganiku avvanzat użat ħafna stmat fl-industriji tal-elettronika, l-ottika, il-kimika u l-materjali. Huwa materjal dielettriku ewlieni f'kapaċitaturi, speċjalment-capacitors tat-tantalu ta' prestazzjoni għolja użati fi smartphones, kompjuters, tagħmir tat-telekomunikazzjoni, elettronika tal-karozzi, u sistemi aerospazjali minħabba l-kapaċitajiet eċċellenti tiegħu ta 'ħażna ta' ċarġ. F'applikazzjonijiet ottiċi, iservi bħala komponent ta' indiċi-rifrattiv- għoli f'kisi ta' film irqiq- għal lentijiet, sistemi tal-lejżer, filtri, u saffi anti-riflettivi. L-ossidu tat-tantalu(V) huwa wkoll utilizzat fil-produzzjoni ta' formulazzjonijiet speċjalizzati tal-ħġieġ, katalisti, kisjiet reżistenti għall-korrużjoni-, u ċeramika ta'-temperatura għolja. Fil-fabbrikazzjoni tas-semikondutturi, tiffunzjona bħala saff dielettriku għoli-k, barriera għad-diffużjoni, u materjal iżolanti għal mikroelettronika avvanzata. Il-laboratorji tar-riċerka jużawh fil-fotokatalisi, apparat elettrokimiku, sensuri, u teknoloġiji tal-enerġija emerġenti bħal batteriji ta' stat solidu-u ċelloli tal-fjuwil.
Benefiċċji
Il-benefiċċji ewlenin tal-ossidu tat-tantalu (V) joħorġu mill-proprjetajiet dielettriċi eċċezzjonali tiegħu, inerzja kimika, stabbiltà termali u prestazzjoni ottika. Tesibixxi kostanti dielettrika għolja ħafna u karatteristiċi ta 'tnixxija baxxa, li jippermettu l-produzzjoni ta' capacitors minjaturizzati iżda ta 'kapaċità għolja-b'ħajja twila ta' servizz u prestazzjoni affidabbli taħt kundizzjonijiet eżiġenti. Ir-reżistenza kimika u termali tagħha tagħmilha durabbli ħafna f'ambjenti korrużivi jew b'temperatura għolja-, u testendi l-ħajja tal-komponenti elettroniċi u industrijali. Bħala materjal ottiku, l-indiċi rifrattiv għoli tiegħu u t-trasparenza eċċellenti fuq firxa spettrali wiesgħa jippermettu kontroll preċiż tal-imġieba ottika f'kisi b'ħafna saffi. F'applikazzjonijiet katalitiċi u relatati mal-enerġija-, l-istabbiltà tagħha, il-proprjetajiet elettroniċi tunjabbli, u l-kompatibilità ma 'diversi appoġġi jtejbu l-effiċjenza katalitika u r-robustezza tal-apparat. Dawn il-vantaġġi magħquda jagħmlu l-ossidu tat-tantalu(V) materjal ta'-valur għoli għal teknoloġiji tal-aktar avvanzati-.
Konklużjoni
L-ossidu tat-tantalu (V) jispikka bħala materjal kritiku madwar l-elettronika, l-ottika u x-xjenza tal-materjal avvanzata minħabba l-prestazzjoni dielettrika superjuri, ir-robustezza u l-funzjonalità versatili tiegħu. L-integrazzjoni tagħha f'capacitors, kisjiet, semikondutturi u sistemi katalitiċi tenfasizza l-importanza teknoloġika wiesgħa tagħha. B'domanda dejjem tikber għal komponenti ta'-effiċjenza għolja, minjaturizzati u durabbli, l-ossidu tat-tantalu(V) qed ikompli jkollu rwol ċentrali f'applikazzjonijiet moderni u emerġenti ta'-prestazzjoni għolja.
It-tags Popolari: tantalum(v) oxide丨cas 1314-61-0, iċ-Ċina tantalum(v) oxide丨cas 1314-61-0 manifatturi, fornituri, fabbrika
